MACHINE機器情報

製品イメージ

顕微鏡・観察装置 集束イオンビーム装置

JIB-4700F 複合ビーム加工観察装置

メーカー 日本電子
販売元 日本電子
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特長

SEM鏡筒にハイブリッドコニカル対物レンズ、GENTLEBEAMTM (GB)モード、インレンズ検出器システムを搭載し、1kVの低加速電圧で保証分解能1.6nmを実現しました。最大照射電流300nAの電子ビームを得られる「インレンズショットキー電子銃」との組み合わせで、高分解能観察と高速分析が可能です。FIB鏡筒は、最大照射電流90nAの高電流密度Gaイオンビームを採用し、試料を高速に加工します。 FIBによる高速断面加工後の高分解能SEM観察や、EDS(エネルギー分散型X線分析装置)、EBSD(結晶方位解析システム)などの各種分析装置による高速分析が可能です。また、自動的に一定の間隔で断面加工を行いながらSEM像取得を行う三次元解析機能も標準搭載しています。

概要

収束イオンビーム加工観察装置(FE-FIB)JIB-4700F

高分解能SEM観察
電磁界重畳型コニカル対物レンズ、GBモード、インレンズ検出器を搭載することにより、1kVの低加速電圧で保証分解能1.6nmを実現しました

仕様

型式 JIB-4700F
その他 SEM
入射電圧:0.1 ~ 30.0 kV
分解能(最適WD時):1.2 nm (15 kV, GBモード)
         1.6 nm (1 kV, GBモード)
倍率:x20 ~ 1,000,000(LDFモード搭載)
照射電流:1pA ~ 300nA
検出器 (*オプション):LED, UED, USD*, BED*, TED*, EDS*
試料ステージ:
コンピュータ制御6軸ゴニオメーターステージ
X: 50 mm, Y: 50mm, Z: 1.5 ~ 40 mm, R: 360°, T: -5 ~ 70°,
FZ: -3.0 ~ +3.0 mm

FIB
加速電圧:1 ~ 30 kV
像分解能:4.0 nm (30kV)
倍率:x50 ~ 1,000,000(x50 ~ 90は加速電圧15kV以下で可能)
照射電流:1 pA ~ 90 nA, 13 段階
加工形状:矩形, 線, 点, 円, ビットマップ
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